方正证券研究所：光刻机行业研究框架

本文来自方正证券研究所发布的《光刻机行业研究框架》，欲了解详细内容，请阅读报告原文。 另外还有30大细分领域的3000多页研究框架，请联系对口销售or方正科技首席·陈杭 半导体产业的核心在于制造，制造的核心在于设备，设备的核心在于光刻机。光刻机作为制造中决定制程工艺的关键节点，同时也是国内芯片设备最为薄弱的环节。应对缺“芯”之痛，光刻机的国产化势在必行。 我们主要从以下三个方面建立光刻机行业研究框架： 1、重中之重，前道设备居首位。光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，技术要求极高。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。 2、冲云破雾，国产替代迎曙光。在当前完全垄断局势下，实现光刻机的国产替代势在必行。28nm光刻机作为02专项的十三五目标，研发明确性较强，且结合28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势，我们认为光刻机国产替代将迎来新的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1的突破。 3、按图索骥，追根溯源寻标的。建议关注以举国之力助力国产替代的光刻产