头豹研究院：2021年中国半导体系列报告：离子注入设备行业概览

应用领域及分类 离子注入设备按照应用领域可划分为集成电路领域、光伏电池领域和面板 领域；按照能量高低与束流大小，可进奇步划分为高中低离子注入设备和 高中小束流离子注入设备。目前掺杂工艺有高温热扩散法和离子注入法， 离子注入机在掺杂工艺中应用占主导地位，并具备掺杂均匀性好，纯度好, 低温灵活、可控精度等优点 离子注入设备最大应用领域——集成电路 离子注入机是四大前道晶圆制造设备之一。离子注入机与薄膜沉积设备、 光刻设备、刻蚀设备同列为四大集成电路制造关键制程设备。在半导体产 业中，离子注入是通过对半导体材料表面进行某种元素的离子注入掺杂， 从而改变其特性的掺杂工艺制程。 集成电路离子注入机市场规模快速增长，竞争格局呈现国际巨头寡头垄断。 目前，中国仅有凯世通和中科信可生产离子注入机，凯世通是中国唯一掌 握集成电路离子注入机核心技术企业。' 离子注入设备应用领域——光伏电池、 AMOLED面板/面: 在中国光伏设备更新需求和中国政策支持助力驱动下，加速了中国离子注 入设备改造N-PERT电池产线。从长远来看，光伏行业补贴退坡，降低光伏 电池成本，提高发电效率为应对关键。 目前AMOLED领