首创证券：电子行业简评报告：盛美上海进军PECVD市场，设备公司向平台化发展

盛美上海进军PECVD市场，打开新增市场空间。12月12日，盛美上海宣布推出拥有自主知识产权的UltraPmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展了一个重要的全新产品分类。11月18日，公司推出一款应用于300mm晶圆工艺的涂胶显影Track设备，正式进军涂胶显影Track市场，有望打开新的市场空间。设备公司向平台化发展。国内半导体设备公司中，部分细分行业龙头已进行平台化布局。1）国内半导体设备龙头北方华创已布局刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机等产品，在集成电路及泛半导体领域实现量产应用。新产品方面，刻蚀机、PVD、CVD、ALD、立式炉、清洗机等多款新产品进入主流产线。其中，刻蚀设备已应用于40-28nm制程集成电路，14-5nm先进制程设备处于研发阶段。公司作为行业龙头将持续受益于国产替代。2）国内刻蚀设备龙头中微公司刻蚀设备保持领先，MOCVD高速增长。2021年，公司生产付运CCP刻蚀设备298腔，同比增长40%，在部分关键客户市场占有率已进入前三位甚至前二位。2021年，MOCVD设备收入为5.03亿元；毛利率达33.77%，较2020年