中银证券：半导体新股系列4-拓荆科技：主导PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉积设备国产化

概况：7月12日，拓荆科技股份有限公司披露招股说明书（申报稿），本次募集资金10亿元用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目以及补充流动资金。公司亮点聚焦于薄膜沉积设备，营业收入高速增长。公司主要从事半导体薄膜沉积设备国产化，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列。2018-2020年公司营业收入依次是0.71亿元、2.51亿元、4.36亿元；净利润依次为-1.03亿元、-0.19亿元、-0.11亿元；毛利率分别是33.00%、31.99%、34.12%，收入显著增长，毛利率稳定，亏损逐年收窄。公司2018-2020年研发费用占营业收入的比例分别为152.84%、29.58%、28.19%。拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，产品关键性能和技术已达到国际先进水平。主要产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江