国金证券：电子行业研究：光刻机：自主可控最核心环节，产业迎来黄金加速期

光刻机是晶圆制造最核心设备之一，技术难度最高且当前国产化率最低。在半导体制造领域，光刻机是延续摩尔定律的核心装备。当前最高端的产品为ASML研发的EUV光刻机，能支持7nm甚至更先进工艺，是延续摩尔定律的核心突破，正推动半导体产业持续迭代。全球光刻机市场呈现出明显的寡头垄断格局。ASML、Nikon和Canon三家公司长期占据全球光刻机市场的主导地位。其中，ASML凭借其在高端光刻机领域的技术优势，2024年占据了全球光刻机市场61.2%的份额，特别是在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商。尼康和佳能则主要集中在中低端光刻机领域。中国光刻机需求量较大，但国产化率极低。中国目前是ASML光刻机最大的客户，2024年因晶圆厂扩产景气度及超额备货的因素中国区收入占比爆发增长至41%。海外制裁持续加剧，核心科技受制于人，国产替代势在必行。 光学系统为光刻机最核心部件。光刻机光学部件指直接参与光的传输和处理过程精密零部件。一台光刻机主要由以下系统组成：光学系统、曝光光源系统、双工作台、浸没系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统和控制系统等。其中光学系统主要组成部分为光刻机的物镜系统，