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方正证券:电子行业深度报告:光刻胶研究框架2.0,详解上游单体、树脂、光酸、光引发剂

发布者:wx****14
2022-08-27
16 MB 92 页
半导体 方正证券
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方正证券:电子行业深度报告:光刻胶研究框架2.0,详解上游单体、树脂、光酸、光引发剂.pdf
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我们归纳出光刻胶及其原材料行业具备以下特征:(1)行业壁垒高,配方技术及质量控制技术要求高;(2)配方研究需时间沉淀,实验室与量产之间存在差距,耗时较长,需提前布局,不存在弯道超车;(3)光刻胶品类多,所涉及原材料丰富;(4)伴随下游晶圆厂扩产,整体市场规模稳健上升,市场供不应求;(5)下游认证壁垒高,客户粘性大;(6)政策驱动性行业,往往依靠专项政策推动技术成果转化。

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