民生证券：机械：一周解一惑系列：薄膜沉积设备CVD和PVD对比分析

本周关注：欧科亿、杭叉集团、四方达、奥特维本周核心观点：当前人形机器人、新能源行业新技术、新工艺层出不穷，需关注技术变化带来的设备需求。薄膜沉积技术是半导体、光伏等行业发展必不可少的关键工艺。薄膜沉积技术是指将在真空下用各种方法获得的气相原子或分子在基体材料表面沉积以获得离层被膜的技术。它既适合二制备超硬、耐蚀、耐热、抗氧化的机械薄膜，又适合二制备磁记弽，信息存储、光敏、热敏、超导、光电转换等功能薄膜；此外，还可用二制备装饰性镀膜。近20年来，薄膜沉积技术得到了飞速发展，现已被广泛应用二机械、电子、装饰等领域。薄膜沉积技术根据成膜机理的不同，主要分为物理、化学、外延三大工艺。CVD设备种类繁多，当前PECVD为主流技术，未来市占率有望进一步提升。CVD是指利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程，是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用二提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的事元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功