中银证券：中微公司（688012）-推动ICP刻蚀销量增长，组建Epi/LPCVD开发团队

中微公司(688012)事件：近期，公司在上证路演中心举办2020年业绩说明会，会上主要内容包括公司CCP刻蚀设备已进入国际一线晶圆代工客户的量产线且有较高的市占率，且2021年ICP刻蚀设备在线运行机台同比增长100%，标志着公司刻蚀工艺获得重大进展。同时，公司继续“三维发展”战略的平台外延，在泛半导体和新兴领域中积极挖掘新增长点。支撑评级的要点半导体器件结构立体化、投资密度提升等增加刻蚀设备需求。尽管在7nm以下的制程中EUV替代多重曝光减少刻蚀步骤是大势所趋，但同时因刻蚀技术难度增加而使得设备需求量不减反增。逻辑器件的微观尺寸从28nm向5nm进步时，所需刻蚀步骤数显著增长近3倍；存储器件为突破物理极限增大容量而向3D结构堆叠时，刻蚀设备的投资占比也从2DNAND的20%提升至3DNAND的50%。据应用材料业绩说明会数据显示，目前半导体投资密度从过去的12%提高至14%，且这一比例将保持较长时间。中微的CCP刻蚀设备本土市占率35%-40%，而ICP刻蚀设备销售已进入放量阶段。公司的CCP刻蚀设备已可覆盖70%左右的CCP刻蚀工艺，应用范围可覆盖前道制程的65nm-5nm的微观