上海证券：半导体设备/材料/零部件行业动态跟踪：ASML光刻机出口限制落地，整体好于预期，国产替代有望重新加速

主要观点ASML光刻机出口限制好于市场预期，国内晶圆厂扩张有望重回正轨。3月8日，荷兰宣布正式加入美国在半导体行业中对中国的限制行列，同时荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》，强调荷兰政府的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，只涉及“最先进”设备。ASML将“最先进”设备定义为TWINSCANNXT：2000i及之后的浸没式光刻系统。根据ASML官网，TWINSCANNXT：1980Di是管制之外制程较为先进的光刻设备，可以满足38nm以上的制程工艺，但实际理论上可以满足14-28nm的工艺生产，只是步骤更为复杂，成本更高。对于国内的晶圆厂来说，如果在荷兰的限制之外，仍然能够采购到满足14-28nm工艺的光刻机设备，那么国产线的推进仍旧可以继续，晶圆厂的扩张有望重回正轨。国内的其他前道设备厂及材料零部件供应商都有望重回加速渗透的阶段，产业链上下游有望持续受益。国产光刻胶加速突破，半导体材料国产替代有望再加速。根据容大感光披露的投资者关系活动记录表，目前公司的干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等产品已经面向市场实现了批量销售，其中部分产品已进入核心客户的供应