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浙商证券:电子行业点评报告:Nvidia产业链·计算光刻:持续推动光刻工艺突破.pdf |
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投资要点NVIDIA于2023年开发者大会推出专为计算光刻开发的软件库cuLitho,根据英伟达信息,通过使用光刻计算库cuLitho,计算光刻速度将提升40倍,GPU加速后生产光掩模的计算光刻工作用时可以从几周减少到八小时,与此同时,功耗降低9倍,光刻计算使2nm及更先进芯片的生产成为可能。计算光刻:解决衍射像差、增强光刻分辨率的核心方法之一。光刻是通过曝光、显影、刻蚀等技术将掩膜版上的图案转移至晶圆的图形精细加工技术,随着光刻及芯片设计制造技术发展,晶圆上晶体管的互联间距缩小,当晶体管的尺寸变得比光刻机所用波长近似或还要小的时候,由于衍射效应的存在晶体管成像就会变得模糊。计算光刻便是增强分辨率解决方法之一。计算光刻属于EDA的一种,用于晶圆制造环节,具体而言就是通过计算机模拟、仿真光刻中的光学和化学过程,预测晶圆上的曝光图形,在半导体制程的开发阶段提供光源优化、掩模版图形修正、缺陷的预判和修正方案分析,通过增大芯片制造工艺窗口从而提高产品良率和生产效率。对于90nm以下节点,必须采用计算光刻技术来提升光刻系统的成像性能,否则将无法实现集成电路量产。因此,计算光刻是支撑光刻工艺节点不
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