浙商证券：电子行业点评报告：Nvidia产业链·计算光刻：持续推动光刻工艺突破

投资要点NVIDIA于2023年开发者大会推出专为计算光刻开发的软件库cuLitho，根据英伟达信息，通过使用光刻计算库cuLitho，计算光刻速度将提升40倍，GPU加速后生产光掩模的计算光刻工作用时可以从几周减少到八小时，与此同时，功耗降低9倍，光刻计算使2nm及更先进芯片的生产成为可能。计算光刻：解决衍射像差、增强光刻分辨率的核心方法之一。光刻是通过曝光、显影、刻蚀等技术将掩膜版上的图案转移至晶圆的图形精细加工技术，随着光刻及芯片设计制造技术发展，晶圆上晶体管的互联间距缩小，当晶体管的尺寸变得比光刻机所用波长近似或还要小的时候，由于衍射效应的存在晶体管成像就会变得模糊。计算光刻便是增强分辨率解决方法之一。计算光刻属于EDA的一种，用于晶圆制造环节，具体而言就是通过计算机模拟、仿真光刻中的光学和化学过程，预测晶圆上的曝光图形，在半导体制程的开发阶段提供光源优化、掩模版图形修正、缺陷的预判和修正方案分析，通过增大芯片制造工艺窗口从而提高产品良率和生产效率。对于90nm以下节点，必须采用计算光刻技术来提升光刻系统的成像性能，否则将无法实现集成电路量产。因此，计算光刻是支撑光刻工艺节点不