民生证券：机械一周解一惑系列：光刻机各环节国产化情况

本周关注：瑞晨环保，华中数控、精测电子、华工科技、卓然股份光刻机整机，2022年全球光刻机市场规模232.3亿美元，三大巨头垄断市场。根据SEMI预测，2022年光刻机占半导体设备市场份额达23%，市场规模232.3亿美元。其中，全球光刻机三大巨头ASML/Canon/Nikon光刻机营收分别为161/20/15亿美元，市场份额达82%/10%/8%；出货量分别为345/176/30台，市场份额63%/32%/5%。从EUV、ArFi、ArF三个高端机型的出货来看，ASML仍维持领先地位，出货量分辨占100%/95%/87%，中国内地占ASML销售额14%。上海微电子光刻机技术在国内领先，目前已可量产90nm分辨率的ArF光刻机，28nm分辨率的光刻机也有望取得突破。光刻机主要就是由激光光源、物镜系统以及工作台这三个核心部分组成，它们之间相互配合就是为了完成更为精确的光刻，数值越小芯片性能也就越强，当然难度也就大。激光光源：浸没式193nm准分析激光器突破，EUV有新进展。就激光光源来说，为了实现更精确的光刻，就必须要提高分辨率，减少光源波长是重要手段。光源系统发展到今天，主流的EUV