文件列表:
太平洋证券:电子化学品系列报告之三:CMP抛光材料自主可控不断提升.pdf |
下载文档 |
资源简介
>
CMP材料国产替代空间广阔晶圆厂扩产叠加新兴AI带动高性能芯片需求,另外先进制程要求抛光步骤次数增加,半导体材料市场规模不断上升,CMP材料国产替代空间广阔。政策扶持+产业链转移+技术发展,不断提升自主可控产业链转移:半导体产业链经历了美国诞生、日本垄断两大阶段,现今伴随着5G、AI行业快速发展与国内政策大力扶持,中国有望承接来自日本、韩国的半导体产业链。政策博弈:面对美日荷对半导体设备出口管制,设备和材料自主可控愈发迫切,将进一步推动晶圆厂和国产设备材料合作,加速国产替代。近年来,我国先后发布了《国家集成电路产业发展推进纲要》《“十四五”数字经济发展规划》等文件,从产业规划、财税支持等多个方面为集成电路产业发展提供了大量政策支持。技术发展:当前抛光垫市场杜邦公司一家独大,抛光液市场美企Cabot市占率高达33%,海外巨头公司占据先发优势,技术封锁持续推进,中国企业逆水行舟,截至2022年,中国大陆成为全球CMP抛光液行业专利数量最多的地区。中国抛光材料企业积极布局鼎龙股份:公司是国内唯一一家全制程抛光垫供应商,现有武汉本部30万片抛光垫产能,潜江三期项目建成投产,再补充20万片抛光垫
加载中...
本文档仅能预览20页