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山西证券:拓荆科技(688072)-薄膜沉积设备领军者,业绩优异长期增长确定性强

发布者:wx****b1
2024-02-04
2 MB 31 页
半导体 山西证券
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拓荆科技(688072)投资要点:薄膜沉积赛道领军者,订单饱满业绩亮眼。公司聚焦薄膜沉积设备研发生产,目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜设备产品系列,广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线,性能参数已达到国际同类设备水平。受益下游扩产和国产替代,公司订单饱满收入逐年提升,盈利水平拾级而上。预计2023年末在手销售订单金额超过64亿元(不含Demo订单),较上年同期增加39.07%。薄膜沉积是半导体制造核心设备,技术壁垒高国产替代空间广阔。薄膜性能直接影响电路图形转移质量和芯片芯能,设备设计制造壁垒较高。2022年薄膜沉积设备在全球半导体设备市场中占比为22%,市场规模约为230亿美元,主要由海外厂商垄断。薄膜沉积设备国产化进程较慢,替代空间广阔。若国产化率提升至50%,对应全球千亿级设备市场规模,国内厂商未来市场空间可达30亿美元以上。技术实力确立领先优势,产能扩充与布局拓展护航长期增长。公司设备型号丰富,广泛覆盖不同薄膜材料工艺需求,产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM芯片和64/128层3DNANDFLASH晶圆

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