国盛证券：半导体设备系列：薄膜生长设备，国产突破可期

发布者：wx****24

2021-07-08

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半导体国盛证券科技

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薄膜生长是采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程，常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。根据工作原理不同，薄膜沉积生长设备可分为：物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积（CVD）和外延等类别。大部分绝缘薄膜使用 CVD，金属薄膜常用 PVD（主要是溅射）。CVD 的使用越来越广泛，基于 CVD 发展的 ALD 更是行业升级的技术方向。

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