光大证券：半导体设备研究系列之明暗场缺陷检测设备：一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率

前道量检测是半导体晶圆制造的关键工序之一，其中明场和暗场检测是重要的检测环节，对芯片制造起着至关重要的作用，是提高产品良率、降低生产成本、推进工艺迭代的重要环节，在多个方面存在很大的不同。根据应用技术的不同，现阶段的前道缺陷检测主要包括电子束检测和光学检测，其中光学检测技术凭借速度快、无接触、非破坏和易于在线集成等优点被广泛应用。常见的光学缺陷检测系统分为明场系统和暗场系统，二者在照明方法、成像原理等方面存在较大差异，相应地，在技术难度上也有一定差别，整体而言明场系统对照明光束物理特征、成像系统、信噪比等方面的要求更加严格。一般来说，无图形晶圆的缺陷检测使用暗场系统，有图形晶圆的缺陷检测使用明场系统或是二者的结合。2021年，按销售额计，前道量检测设备在半导体制程设备市场中占比11%，缺陷检测在前道量检测市场占比高达55%，其中有图形晶圆检测设备市场占比约34%，随着下游需求扩张，缺陷检测市场空间广阔。半导体量检测设备是第四大制程设备环节，诞生大公司KLA。量检测设备的市场规模小于刻蚀、薄膜沉积设备、光刻机，但大于清洗设备、CMP、离子注入、Track、电镀等环节。2021年，按销售额