光大证券：半导体设备行业跟踪：盛美进军前道涂胶显影设备，产品平台化再前进一步

要点盛美上海进军前道涂胶显影Track市场。根据盛美上海官方微信公众号，盛美上海首台具有自主知识产权的前道ArF工艺涂胶显影Track设备UltraLITH成功出机，顺利向中国国内客户交付，该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货。涂胶显影技术是光刻工序的重要环节之一。光刻工序涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备，主要与光刻机配合进行作业，通过机械手使晶圆在各系统间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程。涂胶/显影机的性能直接影响着曝光图案、刻蚀、离子注入等工艺。盛美上海将于2023年推出i-line型号设备，且已开始着手研发KrF型号设备。参考芯源微公告、中国国际招标网，涂胶显影设备可分为offline和inline两大类，其中offline设备不与光刻机联机作业，主要包括前道Barc（抗反射层）涂胶机、PI涂胶显影机；inline设备与光刻机联机作业，根据主流光刻技术发展路线可分为I-line、KrF、ArF、ArFi、EUV等光刻胶的涂胶显影工艺。从盛美的产品规划看，未来将至少覆盖I-line、KrF、ArF三种以上的涂胶显影工艺