东方证券：电子行业动态跟踪：荷兰光刻机禁运细则落地，看好半导体设备国产化加速

核心观点事件：3月8日，荷兰政府表示计划对半导体技术出口实施新的限制。中国10nm及更成熟制程光刻机的进口并不受本次限制影响。ASML在3月8日的最新声明中指出，最新出口限制局限于7nm及以下制程，侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，主要为DUV光刻机TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i两款产品，而未被禁运的NXT1980i等设备仍可支持最低至10nm的芯片生产。也就是说，荷兰实际实施的禁运措施比美国去年10月的芯片管制新规更加宽松（管制新规禁运美国14nm及以下设备）。光刻机技术难度极高，ASML在光刻机领域一家独大。作为集成电路的核心设备之一，光刻机决定了集成电路的集成度，技术难度极高。精细至纳米级别的复杂系统与操作、超高良率和长时间稳定运行的要求共同构成了光刻机的技术壁垒。经历五代产品更迭，光刻机从最初的g-line发展到EUV光刻。ASML作为全球光刻机市场的龙头，其光刻技术拥有绝对领先优势，在EUV、ArFi和ArF领域市占率分别高达100%、96%和88%。目前，我国的光刻机仍处于产业化的起步阶段。市场悲观预期筑