德邦证券：电子：光刻机国之重器，重塑半导体光学板块估值

事件：ASML恢复供应1980Di光刻机引关注。近日ASML发布声明表示荷兰政府的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，只涉及“最先进”设备。ASML将“最先进”设备定义为2000i及之后的浸没式光刻系统。根据ASML官网，1980Di可能是管制之外最先进的设备，其光刻精度≤38nm，并通过多重曝光可以生产14nm以上芯片。ASML的表态反映我国晶圆厂主要扩产的28nm及以上产能的光刻机预计能得到供应，目前国内厂商上海微电子已实现90nm量产（600系列光刻机），正在攻坚28nm光刻机。茂莱光学：公司专注于精密光学器件、光学镜头和光学系统的研发、设计、制造及销售，主要产品包括透镜、棱镜和平片（多光谱滤光片、荧光滤光片、太空反射镜等）。在半导体检测及光刻机领域，公司研发生产的半导体检测设备光学系统已成功应用于国际龙头企业KLA、Camtek的半导体检测设备中；公司研发的精密光学器件已应用于国产光刻机中，为光刻机国产化提供了重要支撑，助力我国国产光刻机的技术发展。公司2022年上半年光刻机应用收入为466.05万元，其中透镜产品收入为244.33万元，上海微电子是公司光刻机领域最主要的客户。