上海证券：电子：出口管制政策收紧带来广阔替代空间，国产设备性能突破彰显卓越替代潜能

主要观点事件描述5月23日，日本经济产业省公布外汇法法令修正案，将先进芯片制造设备追加列入出口管理的管制对象。该计划涉及清洗、成膜、热处理、曝光、蚀刻、检查等23个种类的设备，除10-14nm先进制程设备外还包括≤45nm的成熟制程用光刻设备，并将于7月23日正式实行。分析与判断美、荷、日相继升级先进半导体制造设备出口管制政策，中国先进制程扩产或受限，但成熟制程或受影响较小。2022年10月美国出台新出口管制政策，禁止用于生产16/14nm以下制程逻辑芯片、128层或以上NAND、18nm以下制程的DRAM的设备、零部件、软件技术等出口。2023年3月，荷兰将光刻机出口管制范围由极紫外扩大至最先进的浸没式深紫外；ASML解读，NXT:1980Di设备（分辨率≤38nm）仍允许出口，成熟制程或不会受到影响。日本新修正的限制政策则更为严格：10-14nm先进制程设备及≤45nm的成熟制程用光刻设备均受限制。我国半导体设备长期需求不减，且核心设备依赖日本进口，本次修正案有望带来广阔替代空间。从需求角度来看，集微咨询统计，22-25年中国大陆或将新增25座12英寸晶圆厂。同时，20-22年中国