太平洋证券：南大光电（300346）-ArF光刻胶认证通过，国产替代龙头进阶在即

南大光电(300346)事件：2020年12月17日，南大光电发布公告称，子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，成为国内通过产品验证的第一款国产ArF光刻胶，为全面完成02专项目标奠定了坚实的基础。制程的关键，光刻胶性能决定了工艺所能达到的高度。根据全球半导体行业协会SEMI最新数据，2020年全球半导体材料市场将达到529.4亿美元，且2021年将增长至563.6亿美元，同比增长6%。而在众多半导体材料体系中，制备难度和技术重要性首屈一指的，非光刻胶莫属。作为IC光刻工艺中，光刻胶扮演着电路图案载体的重要角色，其品质好坏直接决定着光刻制程的成败，此外，光刻胶分辨率所能达到的极限指标，便是光刻工艺的极限领域。在工艺节点随摩尔定律演化至今的过程中，光刻胶发展分别经历了G/I线光刻胶（非化学放大）、KrF光刻胶（化学放大）、ArF光刻胶（化学放大）、ArFi光刻胶（化学放大）、EUV光刻胶等品类。本次南大光电验证通过的光刻胶属于仅次于EUV光刻胶的ArF光刻胶，线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求，孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求。南大光