国盛证券：电子：半导体设备系列：光刻机，半导体制造皇冠上的明珠

光刻：将掩膜板上的图形曝光至预涂了光刻胶的晶圆表面上。光刻胶（正胶）受到照射的部分，将发生化学变化，从而易溶于显影液。光刻机是芯片制造的支柱设备，一般分为准直透镜系统（EUV除外）、掩膜板对准系统、曝光系统等。光刻机设备的核心零部件包括光源、镜头以及精密结构等。光刻机演变史，目前以步进式为主，EUV应用于先进制程。光刻机在1985年之前，以g线（436nm）为主；1985年以后，出现少量i线（365nm）光刻机；1990年开始出现DUV光刻机；踏入21世纪，193nm的深紫外线开始使用。13.5nm的EUV在近十年兴起，应用于先进制程。EUV的高分辨率大幅降低重复曝光所需要的沉积、刻蚀等工艺步骤。光刻机从分类方式的演变，从接触式向接近式，最后演变成步进式为主。2020年，全球光刻机市场约135亿美元，占全球半导体制造设备市场21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高，具有较高技术难度，并且单台设备价值量也较高，属于半导体制造设备的“皇冠”。光刻机单机价值量高，每年出货数量约300~400台，其中EUV的供应比较有限。根据ASML、Nikon、Canon三家光刻机财报数据统计