中银证券：半导体设备行业点评：从ASML、Nikon、Canon年报看光刻机行业：EUV已占4成，逻辑客户主导光刻机需求长期高增长

光刻机作为晶圆制造工艺最核心设备，相当于半导体的火车头，且因其被ASML垄断接近90%的市场格局，其订单趋势、产品创新对全球半导体产业具有前瞻性参考价值。市场规模：2020年全球光刻机销量413台，估计销售额130多亿美元均创历史新高。根据ASML、Canon、Nikon公告，全球光刻机销量413台，同比增长15%，按季度依次是95台、95台、97台、126台，分别同比增长19%、25%、8%、12%。参考ASML单价，我们估计全球光刻机市场规模达到130多亿美元，同比增长20%以上，且2016-2020年全球光刻机市场规模年均复合增长23%。市场增量：光刻机行业市场规模的增量主要来自EUV，全球销量占比27%的EUV与ArFimmersion占光刻机市场销售额的82%。2020年EUV光刻机销量31台占比8%，销售额55亿美元同比增长76%，占光刻机市场规模的比例为41%；ArFi销量80台占19%，销售额估计54亿美元同比下降7%，但占全球光刻机市场的40%。ArFdry、KrF、i-line光刻机销量分别为32台、130台、140台，分别同比增长3%、57%、25%，销量占比依次