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东兴证券:半导体技术前瞻专题系列之一:电子行业:AI半导体的新结构、新工艺、新材料与投资建议

发布者:wx****93
2024-01-09
2 MB 17 页
半导体 东兴证券
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东兴证券:半导体技术前瞻专题系列之一:电子行业:AI半导体的新结构、新工艺、新材料与投资建议.pdf
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投资摘要:半导体行业现状:晶圆厂建设成本加大,AI相关开支明显提升。在人工智能和汽车电动化的产业趋势下,半导体增长逻辑在强化,2030年半导体市场规模有望突破1万亿美元。随着工艺节点的突破,半导体研发投入和晶圆厂建设成本大幅提升,5nm晶圆厂建设成本高达54亿美元。晶体管微缩、3D堆叠等促进了CMOS先进工艺方面的投资,2024-2027年半导体制造设备市场有望保持持续增长。预计半导体公司AI/ML相关EBIT快速增长,中长期有望增加至每年850-950亿美元。AI对于半导体制造产生的贡献最大,约为380亿美元,但芯片研发和设计成本有望降低。未来越来越多的数据中心使用高性能服务器,预计2027年AI半导体销售额快速增长。随着AI半导体晶体管数量增加,通过引入MPU、增大芯片面积,算力大幅提升,接下来我们对于AI半导体的新结构、新工艺和新材料等产业趋势进行前瞻性分析。(一)新结构:晶体管微缩、存储器件堆叠,电容使用MIMCAP结构。AI半导体器件的新结构将加速由FinFET向GAA转变。GAAFET的器件结构中,沟道外延层、源极/漏极外延层出现多层结构,此外高性能/高带宽的DRAM使用H

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