德邦证券：拓荆科技（688072）-半导体薄膜沉积设备国产龙头扬帆起航

拓荆科技(688072)投资要点拓荆聚焦薄膜沉积设备，突破海外垄断。拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线。公司核心技术人员具有海外设备厂商的丰富工作经验，带领公司PECVD产品突破海外厂商垄断。薄膜沉积设备市场空间大，拓荆具有领先优势。薄膜沉积设备约占前道半导体设备投资额的25%，是半导体设备中的重要细分品类。根据MaximizeMarketResearch统计，2020年全球薄膜沉积设备市场规模在172亿美元，并预计2025年达到340亿美元，复合增速为14.6%。根据Gartner数据，在薄膜沉积设备市场中，PECVD份额占比近三分之一。2022年1-5月，我们统计发现拓荆科技在国内薄膜沉积设备中标份额快速上升到14%，领先于其他国内厂商。进军先进制程，公司逐步成长为薄膜沉积平台型公司。公司IPO募集资金将投资于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目。截至2021年9月，公司在