天风证券：半导体行业研究周报：荷兰对光刻机出口进一步限制，国产化亟待加速

在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下，荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。当地时间3月8日，荷兰贸易部长列斯杰·施赖纳马赫尔（LiesjeSchreinemacher）在致立法者的一封信中表示，荷兰政府考虑了“技术发展和地缘政治背景”，准备对半导体设备实施新的出口限制，这些规定预计将在夏季之前公布。她在信中没有具体提及中国和荷兰半导体设备主要供应商ASML，但指出其中一项将受到影响的技术是“DUV”光刻技术。“出于国家和国际安全考虑，有必要尽快控制这项技术。”ASML针对上述出口限制发布声明，表示额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻机，而只涉及所谓的“最先进的”设备。ASML提到，这些控制措施需要时间才能转化为立法并生效，公司预计这些措施不会对此前发布的2023年财务展望产生重大影响。ASML强调，额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻机，而只涉及所谓的“最先进的”设备。尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的更多细节，但ASML将其解释为“关键沉浸”（criticalimmersion），ASML将其定义为TWINSCANNXT：2000i和之后推出的浸没式系统。此