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华福证券:拓荆科技(688072)-薄膜沉积设备领军者,技术创新步伐加快

发布者:wx****f4
2024-09-30
2 MB 20 页
半导体 华福证券
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华福证券:拓荆科技(688072)-薄膜沉积设备领军者,技术创新步伐加快.pdf
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拓荆科技(688072) 投资要点: 国内薄膜沉积设备领军者,业绩持续稳定增长 拓荆科技成立于2010年,公司凭借多年的自主研发经验和技术积累,现已拥有多项具有国际先进水平的核心技术,形成了以PECVD、ALD、SACVD及HDPCVD为主的薄膜设备系列产品,在集成电路逻辑芯片、存储芯片制造等领域得到广泛应用。2023年公司业绩持续稳定增长,营业收入达27.05亿元,同比增长58.60%,归母净利润达6.6亿,销售毛利率达51.01%,同时公司在手订单充足,23年在手订单量超过64亿元。 半导体设备行业景气度有望回升,未来前景广阔 全球半导体设备规模随5G、AI等新兴技术的崛起不断扩大,2023年受下游芯片周期疲软和终端库存过高的影响市场规模有所下降,预计2024年需求回暖,市场规模同比增长4%。中国大陆半导体市场不断扩大,在终端市场的拉动下,伴随着我国对半导体产业政策扶持,中国大陆半导体产业发展迅速,在半导体技术迭代创新、产业生态等方面均形成良好效果。 公司大力投入研发,持续丰富产品线 公司持续保持高强度研发投入,目前PECVD产品可以实现全系列PECVD薄膜材料覆盖,包括通用介质薄

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